技术编号:13221347
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及在磁记录介质的磁性体薄膜、尤其是热辅助磁记录介质的磁记录层的成膜中使用的强磁性材料溅射靶;涉及在使用磁控溅射装置进行溅射时能够获得稳定的放电且粉粒产生少的FePt基强磁性材料溅射靶。背景技术在以HDD(硬盘驱动器)为代表的磁记录介质的领域中,作为承担记录的磁性薄膜的材料,使用以作为强磁性金属的Co、Fe或Ni为基质的材料。例如,采用面内磁记录方式的硬盘的记录层一直使用以Co为主要成分的Co-Cr基或Co-Cr-Pt基强磁性合金。另外,采用近年来已实用化的垂直磁记录方式的硬盘的记...
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