技术编号：1331
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及溅射镀覆的专用设备。S-枪磁控溅射源是磁控溅射镀膜机的核心部件，广泛应用于集成电路、家用电器、机械零件、塑料制品以及工艺品等的表面溅射一层牢固的金属膜。US4060470专利提出了一种经过改进的S-枪磁控溅射源，该溅射源主要由一个磁场源、一个阴极靶、一个水冷器、一个中心阳极以及一个屏蔽罩等组成。在其轴心布置一个比地电位高0-40V的中心阳极，中心阳极的外侧依次布置一个带-(500～700)V的呈倒锥形的阴极靶、一个用于冷却靶的环状水冷器、一组环形磁场源、一个用于约束等离子体的接地的屏蔽罩，靶水冷器和环状磁...
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