技术编号:1332013
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及水清洗设备,尤其涉及一种一体式高压水清洗系统。背景技术现有技术中,半导体封装后在其表面会残留一种注胶残余体,需要通过手工清理或用高压水来进行清洗,如若采用人工方式用手清洗的话,费时费力,增加人力成本。利用高压水来进行清洗就需要用到高压水清晰装置,传统的高压水清晰装置在外部还接有独立的水箱,由水箱利用增压泵将水打到过滤器后通过高压泵来提升压力,在操作过程中还需要人工来调节高压泵的压力,费时费力,并且多个系统组件占用面积大,能耗高,大大提高了清洗...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。