技术编号:13341197
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及离子源发生装置技术领域,尤其涉及一种激光溅射离子源的发生装置。背景技术离子源是使中性原子或分子电离,并从中引出离子束流的装置,它是各种类型的离子加速器、质谱仪、光谱仪等装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件;现有技术中的质谱仪等装置涉及的激光溅射离子源,使用聚焦的脉冲激光束照射在转动的靶体,蒸发靶体的靶面材料产生的等离子体与脉冲载气进行反应,生成各种带电离子。此方式在应用中最重要的问题是,其靶体不断地做自转运动,而激光束的照射方向固定不动,因此,长时间的使用会使得靶体的靶面被激...
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