技术编号：13351265
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明设涉及一种曝光系统，尤其涉及一种一部分连接于向目标物涂敷感应剂的基板处理装置且利用带电粒子束对涂敷有感应剂的目标物进行曝光的曝光系统。背景技术在用以制造半导体组件等电子组件(微型组件)的光刻步骤中所使用且使用远紫外域至真空紫外域的紫外光作为曝光射束的曝光装置(以下，称为紫外光曝光装置)中，为提高分辨率，进行了曝光波长的短波长化、照明条件的优化、及用以进而增大投影光学系统的数值孔径的液浸法的应用等。近年来，为形成较紫外光曝光装置的解析极限微细的间距的电路图案，提出有一种电子束曝光装置，其利用...
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