技术编号:1343876
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及的是一种硅片的清洁方法,尤其涉及的是。背景技术硅片是以硅材料制作的片状物体,硅片表面污染物主要包括有机物,颗粒污染和 金属离子玷污等,它们通常以物理吸附和化学的方式存在于硅片的表面或硅片的自身氧化 膜中,难以去除。对正常清洗工艺之后,仍有一些无法去除的杂质,包括有机物、金属和 SIC等,由于清洗工艺需要一个较长的流程,需要大量的清洗装置和大量的清洗液,并且消 耗大量的电力以及时间,特别是装置都有较大的体积,综合考虑节约时间、节约成本、节约 能源和...
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