技术编号：13454208
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及刻蚀液浓度监测技术领域，具体涉及一种刻蚀液浓度的监测系统及其滴定装置、监测方法。背景技术在LCD(LiquidCrystalDisplay,液晶显示器)的生产过程中，湿法蚀刻常被用于可是金属膜层，并且随着刻蚀的进行刻蚀液的浓度逐渐降低，使得单位时间内的刻蚀效率越来越小。为了延长刻蚀液的使用寿命，需要对刻蚀液的浓度进行监控，以确定何时加入和排放刻蚀液，从而确保刻蚀液的浓度始终保持在一定范围内。现有技术主要通过中和滴定方式来监测刻蚀液的浓度，但是该方式将每一类型的定液盛装于一个滴定...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。