技术编号:1346285
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种晶圆片双面刷洗机。背景技术晶圆片作为LED的主要原材料,其表面洁净度要求很高,如果残留的脏物颗粒过多,会严重影响到下道芯片制作的合格率。目前,在晶圆片的制造过程中,众所皆知的是,在加工过程中所遗留在晶片表面的不必要残留必须加以清洗。此般的制造操作范例包括有等离子体蚀刻和化学机械抛光法。若不必要的残留物质和微粒在连续的制造操作过程中遗留在晶片的表面,这些残留物质和微粒将会造成如晶片表面刮伤和金属化特征间的不适当的交互作用等瑕疵。在一些案例中,此...
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