技术编号:1346597
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种对洁净度要求高的材料表面吸附物、污染物进行清理的装置和方法,特别适用于光学元件、真空腔体局部表面沉积的颗粒污染物的清理,属于光学、真空。背景技术在高功率强激光及应用系统、半导体工艺的曝光系统中,用于光的传输和会聚的光学元件,一般放置在真空系统或充保护气体的真空系统中,长时间工作后,在光学元件表面、系统内表面上会吸附或沉积颗粒状的污染物,这些污染物使材料表面的洁净度受到破坏,将影响光学元件的透过率和光束质量,对光学元件产生不良影响。因此,当洁净...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。