技术编号：13508049
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种掩膜版，特别涉及一种用于超高真空互联装置中图形转移的掩模版，属于微纳图形加工技术领域。背景技术超高真空互联装置是通过超高真空管道，将具有材料生长、器件加工、测试分析等不同功能的设备相互连接为一体的纳米领域大科学装置，能够有效解决传统超净间模式中难以解决的尘埃、表面氧化和吸附等污染问题，为科学研究、高新技术开发提供多功能、高效率、超洁净的实验平台。图形化工艺是微纳加工中的重要一步，传统的光刻等图形转移方式由于本身局限性，并不适用于超真空互联装置中；而且传统工艺工序复杂，需要使用光...
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