气体供给系统、基板处理系统及气体供给方法与流程技术资料下载

技术编号:13512290

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本发明涉及一种气体供给系统、基板处理系统及气体供给方法。背景技术在专利文献1中公开有压力式流量控制装置。压力式流量控制装置具备:将气体的流量控制为规定量的控制阀;设置于控制阀的下游的节流孔;配置于控制阀与节流孔之间的温度传感器及压力传感器;以及根据传感器检测值及目标值控制控制阀的开闭量的控制电路。在压力式流量控制装置中,通过控制电路运算根据传感器检测值进行了温度校正的流量。并且,通过控制电路对所运算的流量与目标值进行比较,从而以差值变小的方式控制控制阀。专利文献1:国际公开第2015/06403...
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