技术编号：13518055
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。所公开的主题涉及估计诸如从光源(将光提供给光刻曝光装置)输出的光束的带宽的光谱特征。背景技术从诸如激光器的光源输出的光束的光谱特征或属性(例如，带宽)的精确知识在许多科学和工业应用中是重要的。例如，使用精确的光源带宽知识来控制深紫外(DUV)光学光刻中的最小特征尺寸或关键尺寸(CD)。关键尺寸是印在半导体衬底(也称为晶片)上的特征尺寸，并且因此CD可能需要精细的尺寸控制。在光学光刻中，衬底被光源产生的光束照射。通常，光源是激光源，并且光束是激光束。发明内容在一些整体方面，一种量测系统被用于测量脉...
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