技术编号：13574480
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于纳米压印技术领域，具体来讲，涉及一种纳米压印模板及其制作方法、以及该纳米压印模板用于制作微结构基板的方法。
背景技术
由于经济原因促使半导体业朝着不断缩小特征尺寸方向发展，随之而来的技术进步导致了设备的成本以指数增长；由于成本的增长，人们对纳米压印技术(以下简称NIL技术)这一低成本图形转移技术的关注越来越多。通过避免使用昂贵的光源和投影光学系统，纳米压印技术比传统光刻方法大大降低了成本。
由于省去了光学光刻掩模版和使用光学成像设备的成本，因此...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。