技术编号:1359206
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于清洁设备的片,更具体地涉及清洁片和清洁基底处理设备(substrate treatment device)的清洁方法,该基底处理设备易于受到外来物质,如半导体或平板显示器生产设备和半导体或平板显示器检查设备的损害。背景技术 基底处理设备输送彼此物理接触的各种输送系统和基底。在此过程期间,当外来物质粘附到基底或输送系统时,能连续污染随后的基底,使得必须在规定的时间间隔下中止操作设备并清洁设备。这带来的问题是工作效率降低或需要更多劳动。为解决这些...
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