技术编号:13668413
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种使用雾法在基板上使金属氧化膜成膜的金属氧化膜的成膜方法。
背景技术
在太阳能电池、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、LED(Light Emitting Diode,发光二极管)等发光装置或触控面板等领域中,在基板上形成有金属氧化膜。以往,作为使用非真空成膜技术使金属氧化膜在基板上成膜的方法,有喷涂法、溶胶凝胶法、雾CVD(Chemical Vapor Deposition,化学气相沉积)法等大气开放溶液体系的金属氧化膜的成膜...
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