技术编号:13765901
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及蚀刻装置、蚀刻方法、基板的制造方法及基板。
背景技术
在平板显示器等的制造工艺中,已知有由于基板与工作台等接触时产生的静电而基板带电的情况。因此,为了抑制这样的带电,提出了利用含有HF系气体的等离子体对基板载置于工作台等的一侧的面(以下,称为“背面”)进行蚀刻而使基板的背面实现粗糙面化的方案(例如,参照专利文献1)。而且,已知有使含氟气体、水蒸汽、等离子体发生反应来产生含有HF系气体的反应气体,将该反应气体向基板喷吹来对基板进行蚀刻的方法(例如,参照专利文...
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