技术编号：13883009
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种高深宽比高保形纳米级正型结构的制备方法，可用于光学领域、生物领域、声学领域。背景技术：高深宽比高保形纳米级正型结构，在光学领域和生物领域有着广阔的应用前景，特别地，传统的光学成像和微纳加工技术受到衍射极限的限制，基于表面等离激元(surface plamon polaritions,SPPs)的高保形的人工微结构可以通过对光的调制实现超分辨成像；生物领域的细胞培养等对于微纳结构的高深宽比高保形也有一定的要求。传统的微纳结构的制备是在光刻胶上曝光显影，蒸发功能材料，湿法去除光刻胶，或...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。