技术编号:13947485
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显示器制造技术领域,尤其涉及一种蒸发源、蒸镀设备及蒸镀控制方法。背景技术真空蒸镀是目前制备OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)器件的主要制备方式,真空蒸镀设备利用热蒸发的方式使得有机发光材料沉积在基板上,形成均匀致密的薄膜。蒸镀有机材料的蒸发源装置对于蒸镀有机材料的膜层起到至关重要的作用,现有技术中蒸发源装置存在以下问题:现有技术中蒸发源装置的坩埚内蒸镀材料的消耗速率无法实时监控,对于蒸镀速率不能实时调整,膜厚均一性不可控;此外,当坩埚内...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。