技术编号:13978588
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本公开一般涉及蒸镀技术领域,尤其涉及蒸镀装置及蒸镀方法。背景技术真空蒸发镀膜法(简称真空蒸镀法)是在真空蒸镀室中通过蒸镀源对蒸镀材料进行加热,使蒸镀材料的原子或分子从其表面气化逸出形成蒸汽流,入射到待蒸镀基板表面,凝结形成固态薄膜的方法。真空蒸镀法已经广泛应用于显示器件的制作过程,例如OLED(有机发光二极管,Organic Light-Emitting Diode)显示面板的阴极、阳极以及位于阴极和阳极之间的发光材料层。现有的蒸镀装置对待蒸镀基板进行蒸镀时,待蒸镀基板通常水平安装在基板载具上,...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。