技术编号：14021964
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及涂胶机，具体涉及一种具有定量滴胶功能的磁悬浮式涂胶机，可以实现基片表面定量均匀涂胶。背景技术涂胶机又称甩胶机、旋转涂膜机，原理是在高速旋转的基片上，基片多为硅片，滴注各类胶液，利用离心力和表面张力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，形成一层薄膜，离心匀胶过程是光刻工艺中首要关键的一个步骤。涂胶过程中滴胶剂量的可控性、基片的固定、主轴旋转的平稳性、数据监测的可观性以及转速时间等因素的可调性都是应予考虑的重要因素，决定着最终光刻工艺中图形的清晰度、胶的粘度以及胶膜厚度的均匀性。在现有的涂...
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