技术编号：14056247
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。于2016年9月21日提出的日本专利申请No.2016-184087的公开包括说明书、附图和摘要，通过引用的方式将其全部并入本文。技术领域本公开涉及一种曝光设备，尤其涉及一种用于制造半导体器件的曝光设备。背景技术在半导体制造过程中，人们都知道使用光将图案转移到平面衬底上的光刻过程。在光刻过程中，形成在光掩模上的图案通过曝光设备被转移(曝光)到涂布在晶片上的感光层(光致抗蚀剂)上。作为曝光设备，可使用诸如步进机的批量曝光型投影曝光设备，或诸如扫描仪的扫描曝光型投影曝光设备。随着精细处理技术的最近改...
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