技术编号:14135054
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种样品制备方法及中间件,属于光通信技术领域,具体是涉及一种激光器芯片失效定位分析样品制备方法及中间件。背景技术有源光器件是光纤通信的基础,随着光纤通信系统的发展和广泛应用,人们对有源光器件的质量和可靠性要求越来越高。半导体激光器芯片作为有源光器件的核心组成部分,其质量和可靠性要求也更严苛,对芯片失效样品的分析也逐渐深入到材料层级,半导体激光器芯片尺寸极小,在百um 量级,材料特性又易碎,这就需要对失效的芯片样品在百um量级尺度下进行制样,并注意保护样品。这样才能开展后续的缺陷定位分析...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。