制造电子设备的方法与流程技术资料下载

技术编号:14163778

提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

背景技术各种化学和物理过程可以用于将材料沉积在衬底上。一些沉积过程依赖于图案化沉积,其中掩模或其他机制用于在精确的容差内创建纳米级特征,例如匹配诸如晶体管路径宽度的电子纳米级结构的尺寸,而其他沉积过程提供相对无特征的、大尺度沉积,诸如横跨几十微米距离或更大距离的基于覆盖层(blanket)的涂敷或沉积。存在对于其而言现有过程是次优的一类建造应用。更具体地,对于其中人们期望将层形成在相对于纳米级特征的衬底的大的区上的应用,尤其是对于有机材料沉积,可能难以控制沉积的层的均匀性。附图说明图1A是示出公...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。

详细技术文档下载地址↓↓

提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
该分类下的技术专家--如需求助专家,请联系客服
  • 高老师:1. 印刷电子 2.智能包装材料
  • 张老师:1. 立体印刷技术 2.3D打印及激光制造
  • 崔老师:1. 印刷电子 2. 仿生图案化功能结构