技术编号:14165719
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种制备钴基氧化物超薄纳米片的方法,属于纳米材料制备技术领域。背景技术自从2004年石墨烯成功地使用机械方法从石墨中剥离出来,人们开始逐渐重视对无机超薄二维材料的开发和应用。与块体材料相比,无机超薄二维材料由于尺度原因,通常表现出大的比表面积,良好的机械性能,优异的光学和电学特性等。此外由于无机超薄二维结构表面积极大,可以暴露大量配位不饱和的表面原子,且这些原子通常可以成为化学反应或催化反应的活性位点,因此,越来的越多的无机超薄二维材料被开发应用于能源催化和环境催化等领域,例如:光催化...
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