技术编号：1416828
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种新型的具有 排气功能的常压等离子体自由基清洗喷枪本发明涉及到新型的具有排气功能的常压等离子体自由基清洗喷枪。喷枪内壁面与外壁面之间为排气狭缝，等离子体中的自由基与被清洗物体表面的有机物发生反应后，产生的反应产物可以及时通过排气口排走，防止了反应产物的堆积。背景技术微电子工业中，硅片清洗的好坏对器件性能有严重的影响，因此清洗工艺在集成电路制造过程中占十分重要的环节。湿法清洗是传统的清洗方法，但存在许多缺点，例如不能精确控制、清洗不彻底、需对废液进行处理等...
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