技术编号:1417041
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种去离子水槽,特别是涉及一种外表面带有防水挡板的去离子水槽。背景技术在研磨工艺中,晶圆在研磨结束后都必须经过清洗和干燥的后处理工艺,以确保能够充分的去除晶圆表面在研磨过程中留下来的残余杂质,并得到干燥的晶圆表面,才能够传送回原来晶圆存放的晶舟里。晶圆干燥的工艺主要是在干燥槽模块内晶圆被传送到去离子水水槽内浸泡,在水槽内的晶圆过渡传感器即时侦测晶圆所处的位置,并把晶圆的位置信号传输给执行机构,由执行机构把晶圆过渡到高温槽,在这个过渡的程中,一定量...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。