技术编号:1420556
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种湿式清洗装置,尤其涉及将湿式清洗装置中用于清洗抓持基片的自动夹头(Robot Chuck)的自动夹头清洗槽和用于冲洗经清洗处理的基片的基片冲洗槽形成为一体的兼用作自动夹头清洗槽的基片冲洗槽,以及具有该兼用作自动夹头清洗槽的基片冲洗槽的。背景技术 随着半导体元件回路图案的设计规则(Design Rule)的细微化,半导体元件生产过程中所使用的半导体基片上生成或附着的各种微粒(Particle)、金属杂质、有机物等引起的污染对制品的成品率或可靠度...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。