技术编号:14206848
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及多晶硅还原炉,具体涉及一种电子级多晶硅还原炉。背景技术多晶硅还原炉是改良西门子法的核心反应器,同时还原炉也是多晶硅生产过程中主要的耗电装置。多晶硅还原过程是一个高耗能的过程,能量消耗主要为硅棒向还原炉壁面辐射的能量、尾气中带走的热量以及化学反应消耗的能量,其中还原炉壁面冷却水带走的热量占整个还原电耗的40%以上。多晶硅还原炉内的硅棒通过电流加热后温度升高到1000~1200℃,三氯氢硅(TCS) 和氢气的混合气以一定的流量流入到还原炉内,并在硅棒表面发生复杂的反应并沉积出高纯多晶硅...
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