技术编号：14212030
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明大体上涉及用于准确特性化包含(但不限于)局部临界尺寸(CD)改变、线或空间宽度改变及曲率的图案形态学的自动化图案计量位点放置及优化。某些实施例涉及用于确定将对样本执行的计量过程的一或多个参数的方法及系统。背景技术下列描述及实例不凭借其包含于此章节中而被视为现有技术。在半导体制造过程期间的各个步骤使用检验过程以检测晶片上的缺陷以驱动制造过程中的更高良率及因此更高利润。检验始终是制造半导体装置的重要部分。然而，随着半导体装置的尺寸减小，检验对于成功制造可接受半导体装置变得更加重要，这些因为更小...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。