技术编号:14216925
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于超纯水制备技术领域,涉及一种用于浸没式光刻具有调节出水总有机碳的超纯水制备装置。背景技术在193nm ArF浸没式光刻系统中,一般采用在投影系统最后一个物镜到硅片的间隙中填充一层超纯水作为浸没液体,以此提高光刻分辨率。由于这层超纯水作为光路的一部分,并且直接和硅片接触,因此对该超纯水的水质提出了很高的要求。为了防止超纯水中有有机微粒产生,应该对该超纯水做去有机碳处理。此外,在IC光刻工序的清洗用水中假如含有不纯物质或微粒,将导致栅氧化膜厚度不均,产品图形发生缺陷,耐压机能变坏,因此我们...
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