技术编号：1422421
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及从基板定位用的定位记号上除去保护膜和反射防止膜等的涂布膜的膜除去装置、膜除去方法以及基板处理系统。背景技术 制造LCD或半导体设备的光刻法(Photolithography process)，是以以下顺序进行的在基板(LCD用玻璃基板、半导体晶片)表面涂布保护液的保护膜涂布处理、在保护膜上形成规定的潜象图案的曝光处理、以及使保护膜显影的显影处理。这样规定电路图形就在基板上形成了。在曝光处理方面，曝光机必需精度极高地对基板定位，基板定位的步骤如下在...
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