技术编号：1422792
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种具有清洁功能的原料液/源液供应装置，一种从所述供应装置上拆卸原料容器的方法和一种用于清洁原料液供应管道的方法。更具体地说，本发明涉及一种用于将原料液例如化学试剂供应给特定装置例如金属有机物化学汽相淀积(MOCVD)装置的装置。本发明还涉及一种用于所述供应装置的维护技术。背景技术 用于制造半导体装置以及电子装置和仪器的设备通常使用原料液，所述原料液是难于处理的化学试剂，其残留物很难简单地通过气体清洗的方式除去。一旦这种原料液经过歧管或蒸发器，当...
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