技术编号:14237184
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本公开一般涉及电子技术领域,尤其涉及图案化石墨烯的制备方法。背景技术石墨烯是由单层碳原子组成的二维平面结构,它具有极高的透过率,单层石墨烯的透过率可达97.7%,和优异的弯折性能,是一种较理想的柔性透明导电膜。目前石墨烯的制备工艺主要包括石墨烯的生长、转移和图案化。其中常用的转移过程是采用聚合物作为石墨烯支撑体,刻蚀生长基底并转移至目标基底后,再去除聚合物。图案化工艺目前主要采用激光刻蚀,但它存在分辨率不高以及难以大面积刻蚀的缺点。发明内容鉴于现有技术中的上述缺陷或不足,期望提供一种图案化石墨烯...
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