技术编号:14257111
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及太阳光伏电池技术领,尤其涉及一种电池用单晶硅片的制绒方法。背景技术碱液对单晶硅片的[100]晶面蚀刻较快,而对[111]晶面的蚀刻较慢。由此而产生的蚀刻速率差将会导致在使用碱液对硅片进行蚀刻的过程中单晶硅片表面会形成金字塔结构。该结构能有效减少硅片对光的反射。在太阳能电池片的制备过程中,硅片对光的反射越低,硅片对光的吸收越多,太阳能电池转换效率也越高。通过上述碱液蚀刻的方法对单晶硅片表面进行织构化处理是常用的增加晶体硅对光的吸收的有效途径之一。现有的单晶硅制绒工艺通常需要600 s-9...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。