技术编号：14269392
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体技术领域，特别涉及曝光设备和曝光方法。背景技术半导体技术中的光刻技术是现代加工技术中制造微细结构最好也是最普遍的加工技术，特别是其中的光刻技术中的曝光部分，是现代制造大规模集成电路(LSI)、微机电系统(MEMS)、平板显示器(LCD、OLED等)最主要的加工手段。光刻技术的基本原理类似照相机照相原理，可通过光源发生器形成满足要求的高均匀照明场，照射固定在掩膜台上的掩膜板，掩膜板上有所需的光刻图形，通过投影物镜可将被照明掩膜图形无像差的成像到固定在工件台上的基片上，再通过后续工艺...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。