技术编号:14397345
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种高纯度硅烷的制备方法,尤其是一种六氯乙硅烷的纯化方法。背景技术六氯乙硅烷,英文名称Hexachlorodisilane,简写HCDS, 是一种性能稳定,挥发性低的湿度敏感型液体。一般作为一种高纯度前体产品,HCDS在多种高级薄膜淀积(半导体存储和逻辑芯片制造技术)工艺中发挥着至关重要的作用,即在低温工况中替代硅烷或二氯甲硅烷应用于高品质氧化硅与氮化硅薄膜的淀积生产工艺中。CN103011173A 公开了一种六氯乙硅烷的合成方法,其特征是,包括以下工艺步骤:(1)将硅粉与催化剂加入反...
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