技术编号：14415928
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种研磨装置，特别是一种可用于单面打磨的游星轮。背景技术现有的游星轮大部分被设计用于光学器件的双面抛光，即游星轮的厚度会小于光学器件的厚度，在某些情况下若仅需研磨一个面，使用者一般会选取厚度较厚的游星轮从而保证光学器件的另一个面不被研磨，但该种方式效率较低，抛光设备的两面研磨盘不能被有效利用。中国专利公告文本CN103158054B公开了两种在双面研抛机上实现的单面抛光方法，其采用粘合剂的方式将两片待研磨光学器件粘合，从而仅研磨两光学器件的各一个面，该种方法同样对于游星轮的厚度选取...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。