技术编号：14440942
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及高精度的直线位移测量领域，具体为一种用于纳米位移测量的修正方法。背景技术微细加工技术作为集成电路制造领域中不可缺少的重要手段。而在集成电路制造领域中，集成度是衡量其先进程度的重要指标，是指单块集成电路芯片所能容纳的元件数量。更高的集成度一直是集成电路制造中不断追求的目标，也就要求微细加工技术具备更小线宽的加工能力。同时，随着材料、能源、生物、医疗等领域朝着微观方向的发展，也越来越依赖于微细加工技术的进步。光学投影光刻因为其非接触、高精度、加工面积大、加工图形不受限的特点，是当今微细加工...
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