技术编号:1449025
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请案涉及用于制造半导体和显示器的工艺的清洁剂组合物。清洁剂组合物包括0.01wt%到3wt%氨基酸螯合剂、0.01wt%到0.5wt%有机酸、0.01wt%到1.0wt%无机酸、0.01wt%到5wt%碱化合物和0.01wt%到98wt%去离子DI水,从而使得所述组合物是pH为8到13的基于水的碱且能在防止反向吸附和铜腐蚀的同时移除颗粒和有机污染物。此外,所述清洁剂组合物可进一步包括苯甲酸或苯并三唑腐蚀抑制剂。另外,可用所述苯甲酸或苯并三唑腐蚀抑制剂替...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。