技术编号：14518304
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及激光曝光技术，具体涉及一种双分镜头直写式曝光机系统。背景技术在半导体以及PCB制造的激光直写光刻领域，采用激光直接影像技术的扫描曝光原理如下：采用数字微镜装置(Digital Micromirror Device，简称(DMD)的微镜片高速翻转能力，结合适当的光源和投影光学系统，当微镜片为ON时，出射光会投射到基底，当微镜片为OFF时，出射光将射出光路，在基底没有出射光。通过连续向DMD投射均匀光，同时实时、集体改变微镜片阵列的开关状态，达到在基板上曝光不同图案的目的。目前，单个DMD...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。