技术编号:14578523
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及反应釜的技术领域,特别涉及一种真空反应釜。背景技术随着微电子技术的发展,集成度越来越高,CMP过程在集成电路制备过程中越来越重要,抛光液的质量和洁净度显的尤为重要。目前,制备用于CMP碱性抛光液的反应釜一般都采用机械搅拌的反应釜。反应釜由釜体、釜盖、夹套、搅拌器、传动装置、轴封装置、支承等组成。搅拌桨在反应釜内通过外部电机的带动对反应液搅拌。虽然反应液能够被充分搅拌,但容易对抛光液造成污染,尤其是机油的污染。实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种真空反应釜,解决上述现有技术问题中...
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