一种多光场调制的三维形貌测量方法与流程技术资料下载

技术编号:14607411

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本发明涉及微观三维形貌测量领域,具体为一种多光场调制的三维形貌测量方法。背景技术随着应用需求的提升,要求微纳器件具有更大的信息容量,促使微纳器件由二维、微米级向三维、纳米级发展,也就对纳米级三维结构检测技术提出了迫切需求。在众多测量方法中,光学测量由于其具有非接触、非破坏、测量速度高、系统结构简单、环境适应性强等优点,应用十分广泛。典型的光学测量手段包括激光共聚焦扫描、椭偏仪、宽光谱显微干涉技术、微视觉测试技术、数字全息技术等。其中数字全息技术能够不采用额外的光学成像系统,直接通过记录经被测物体...
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