技术编号：14615119
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型应用于超高真空设备中原位局部化学气相沉积技术领域，特别是在原位电子显微领域的观察，比如低能电子显微镜、透射电子显微镜以及其他电子能谱仪等，具体涉及一种真空设备用可伸缩气体源装置。背景技术随着技术的发展，越来越多的高精密物质表征设备被开发了出来。为了提高精度和排除干扰，这些高精密物质表征设备大多工作在高真空环境中，例如透射电子显微镜，低能电子显微镜，电子能谱仪等。这就极大地限制了这些高精密物质表征设备的适用范围，导致这些设备无法对很多的反应，生长过程进行原位观测。东京工业大学于2009年...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。