技术编号：1465527
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型的冲洗装置包括腔室，连接所述腔室的注入管道和冲洗管道，还包括一净化装置，通过进气管道和出气管道将净化气体注入腔室中以取代腔室中的氧气，并能通过阀门使腔室中保持一定的压力。另外，将注入管道加长，延伸至腔室的底部，防止了将腔室中上部的氧气带入冲洗液中，更好地实现了减少冲洗液中的溶解氧，以达到保护衬底上金属层的目的。专利说明冲洗装置 [0001]本实用新型涉及半导体领域，尤其涉及一种冲洗装置。 背景技术 [0002]刻蚀是集成电路制造工艺中相...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。