技术编号:14655745
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及对基板进行处理的基板处理装置以及基板处理方法。作为成为处理对象的基板包括例如半导体晶片、液晶表示装置用基板、等离子显示器用基板、FED(Field Emission Display:场发射显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳电池用基板等。背景技术在半导体装置的制造工序中,利用处理液对半导体晶片等的基板的表面(front surface)进行处理。对基板一张一张地进行处理的单张式(singlesubstrate processing ...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。