技术编号：14663429
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种回传装置和回传方法，具体涉及一种基板架回传装置及基板架回传方法。背景技术在光伏行业里所用生产型磁控溅射沉积设备主要分为卧式磁控溅射镀膜机和立式磁控溅射镀膜机两种，其中以卧式为首，其主要优点是整体膜层均匀性好，缺点是占地空间大；针对于陶瓷靶材，在制程过程中靶材掉渣现象不可避免，玻璃膜层边缘容易出现打火现象，严重影响成膜质量，为避免打火现象的发生，需要附加基板架对玻璃边缘进行遮挡来解决，而添加基板架的同时需要加设回传系统以实现自动化控制，但因厂区空间有限，无法外设基板架回传系统和能否实...
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