技术编号：14677811
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种半导体设备，尤其涉及一种提升化学气相沉积工艺设备的传送盘使用寿命的装置。背景技术LAMC3VECTOR设备工艺是在腔体内的高温环境下,通过对特定的工艺气体在等离子体增强条件下在硅片表面进行化学气相沉积形成薄膜。它的特点是成膜速度快，薄膜均匀度好。成膜过程是由四个气体喷嘴完成，每个气体喷嘴成膜25％。晶圆由承载环承载，承载环再通过传送盘携带，顺时针旋转来完成整个成膜过程中的传送部分。现有工艺中的风险是晶圆在腔体内传送过程中传送盘一共有三个位置：升起位；传送位；降下位。1.升起位：...
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