技术编号:14703119
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于纳米材料技术领域,具体涉及一种单一试剂自反应制备八面体晶型Ta2O5纳米颗粒的方法。背景技术Ta2O5作为一种典型的宽带隙半导体(禁带宽度3.9eV),有着许多突出的特点,例如良好的化学稳定性、热稳定性、高介电系数、高熔点、高机械强度、高生物相容性以及易于半导体集成电路/工艺相兼容等特点,使其在化学反应器皿、医疗器械、电容器、集成电路、颜料降解、污水处理以及光催化等领域都有着广泛的应用前景。目前关于Ta2O5膜报道较多,制备方法也多种多样;对于Ta2O5颗粒的制备也同样也引起人们关注,...
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