曝光设备、曝光方法、彩膜基板及其制作方法与流程技术资料下载

技术编号:14713346

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本发明涉及光刻技术领域。更具体地,涉及一种曝光设备、曝光方法、彩膜基板及其制作方法。背景技术传统的基板在制作的过程中,光刻工艺利用曝光装置将平行光束垂直的透过掩膜板的开口部,对基板上待曝光的光刻胶进行曝光,进一步通过显影形成所需的光刻胶图案。从而,在现有的这种曝光方法中,只能得到一种固定线宽的光刻胶图案,而无法获得不同线宽的光刻胶图案。也即,一种尺寸的光刻胶图案只能对应一个掩膜板,不同尺寸产品之间使用的掩膜板不可以复用。而掩膜板价格昂贵,在项目研发成本中占有极大的比例。因此,如何低成本形成不同线...
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