技术编号：14713346
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻技术领域。更具体地，涉及一种曝光设备、曝光方法、彩膜基板及其制作方法。背景技术传统的基板在制作的过程中，光刻工艺利用曝光装置将平行光束垂直的透过掩膜板的开口部，对基板上待曝光的光刻胶进行曝光，进一步通过显影形成所需的光刻胶图案。从而，在现有的这种曝光方法中，只能得到一种固定线宽的光刻胶图案，而无法获得不同线宽的光刻胶图案。也即，一种尺寸的光刻胶图案只能对应一个掩膜板，不同尺寸产品之间使用的掩膜板不可以复用。而掩膜板价格昂贵，在项目研发成本中占有极大的比例。因此，如何低成本形成不同线...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。