技术编号：14716771
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明实施例涉及离子植入机，尤其涉及一种离子植入机及其载片回路和离子植入方法。背景技术离子植入为半导体工艺中常见步骤。具体而言，在半导体制造流程中，使用离子植入技术将掺杂物质以离子形态植入半导体组件的特定区域上，进而获得精确的电子特性。离子植入机即为用于进行离子植入的设备。现有的离子植入机进行离子植入时，基片只能在一条直线路径上往复运动。具体而言，基片的运动过程为：先以加速运动的方式靠近离子束，再以匀速运动的方式通过离子束，最后以减速运动的方式停止。对于任一个基片，此运动过程可能需要重复进行多次...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。